中國最大的光刻機生產廠家
最佳答案爲：上海微電子。
上海微電子目前已經量產最先進的SSA600/20系列光刻機，依舊採用的是193nm ArF光源技術，可用於低端的90nm芯片，更重要的是上海微電子的光刻機設備掌握着國內低端光刻機設備領域近80%市場份額；而根據國內官方媒體最新報道，上海微電子下一代28nm工藝節點的浸潤式光刻機可以在明年完成量產交貨，這意味着國產光刻機設備即將會掀起一股中國替代潮，已經取得了重大技術突破的上海微電子，未來的發展潛力無限。上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。
目前我國的光刻機廠家正在快速發展中，雖落後西方國家一步，但未來是光明可見的。光刻機的種類、品牌多式多樣，其重要功能各不一樣。光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。光刻機的品牌衆多，根據採用不同技術路線的可以歸納成如下幾類：高端的投影式光刻機可分爲步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌爲主。位於我國上海的SMEE已研製出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發製作工作。生產線和研發用的低端光刻機爲接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。
光刻機一般根據操作的簡便性分爲三種，手動、半自動、全自動。A 手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；B 半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；C 自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循環都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。製造高精度的對準系統需要具有近乎完美的精密機械工藝，這也是國產光刻機望塵莫及的技術難點之一，許多美國德國品牌光刻機具有特殊專利的機械工藝設計。例如Mycro N&Q光刻機採用的全氣動軸承設計專利技術，有效避免軸承機械摩擦所帶來的工藝誤差。對準系統另外一個技術難題就是對準顯微鏡。爲了增強顯微鏡的視場，許多高端的光刻機，採用了LED照明。對準系統共有兩套，具備調焦功能。主要就是由雙目雙視場對準顯微鏡主體、目鏡和物鏡各1對（光刻機通常會提供不同放大倍率的目鏡和物鏡供用戶組合使用）。CCD對準系統作用是將掩模和樣片的對準標記放大併成像於監視器上。
